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  • 檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "Pad".ekeyword (精準) and cadvisor.raw="林榮慶"


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    導入CMP領域知識之工程專利知識庫與專利分析檢索技術之初步研究
    • 機械工程系 /93/ 碩士
    • 研究生: 陳易宏 指導教授: 林榮慶
    • 根據世界智慧財產權組織(WIPO)統計報導,善加利用專利資訊,可以縮短研發時間60%,節省研發經費40%,專利資訊既是技術文件,也是法律文件(權力文件),根據統計,產業界的KNOW-HOW,百分之八…
    • 點閱:340下載:3
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)

    2

    研磨液體積濃度變化對無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓研磨移除深度之理論模擬模式及迴歸模式分析
    • 機械工程系 /108/ 碩士
    • 研究生: 吳宗儒 指導教授: 林榮慶
    • 本研究先建立室溫下不同體積濃度之無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓的研磨移除深度理論模擬模式。我們將矽晶圓浸泡在常溫下不同體積濃度研磨液後,接著進行原子力顯微鏡實驗,計算得出浸泡室溫不同體積濃度…
    • 點閱:272下載:0
    • 全文公開日期 2025/08/10 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    無花紋研磨墊化學機械拋光不同體積濃度及不同溫度研磨液之矽晶圓研磨移除深度理論模擬模式及迴歸模式分析
    • 機械工程系 /109/ 碩士
    • 研究生: 蔡鴻霖 指導教授: 鄭逸琳 林榮慶
    • 本研究先建立不同研磨液溫度及不同研磨液體積濃度之無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓的研磨移除深度理論模擬模式。我們先將矽晶圓浸泡在不同溫度及不同體積濃度研磨液後,接著進行原子力顯微鏡實驗,計算得出浸泡不…
    • 點閱:356下載:0
    • 全文公開日期 2024/07/26 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/07/26 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/07/26 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    無花紋研磨墊化學機械拋光不同體積濃度及不同研磨顆粒直徑研磨液之矽晶圓接近實驗之平均每分鐘研磨移除深度理論模擬模式及迴歸模式建立和實驗
    • 機械工程系 /110/ 碩士
    • 研究生: 羅品翔 指導教授: 周育任 林榮慶
    • 本研究先建立不同研磨液體積濃度及不同研磨液研磨顆粒直徑之無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓的研磨移除深度理論模擬模式。我們先將矽晶圓浸泡在常溫下不同體積濃度研磨液後,接著進行原子力顯微鏡實驗,計算得出浸…
    • 點閱:227下載:0
    • 全文公開日期 2024/08/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/08/31 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/08/31 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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